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真空电镀小常识

文章出处:佛山市南海区喜有沃不锈钢有限公司 人气:-发表时间:2016-11-05
    PVD技术是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。经常使用的方法主要有:蒸发镀膜和溅射镀膜,统称为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),就是PVD。平常所说的“IP”(ion plating)离子镀膜,是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用,为了强调离子的作用,而统称为离子镀膜。 与传统化学镀膜方法相比,PVD有很多优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。

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